離子轟擊處理過程大致分為以下幾部分:

(2)離子清潔。借助離子轟擊,將工件表面上的油脂及臟污物質轟擊出工件表面,使工件表面清潔。
(3)活化表面。利用滲劑中分解的氫或凈氫,在直流電場中電離成正離子,并轟擊工件表面奪取工件表面氧化膜中的氧,從而達到活化金屬表面。
(4)離子或分子離子在活化的金屬表面凝聚,發(fā)生電化學反應,即吸收電子變成活性原子或分子離子吸收電子降價析出活性原子滲入金屬基體。由于離子或分子離子轟擊能量較大, 使?jié)B入活性原子進入4~ 5層原子厚度內。
(5)離子轟擊能量非常大,有人對離子轟擊陰極能量做過實驗, 電壓在800 V時離子能量相當于520e 氣體氮化時鐵表面氮原子能量的3000倍。這樣大能量的離子沖擊工件表面, 不僅引起陰極濺射, 而且使表面形成深度約0.05 mm的位錯層。這一薄層位錯的形成,給氮擴散提供通道,從而加速了擴散。
