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　　離子熱處理設備由離子發(fā)生器（電源）、真空爐體、測溫測壓裝置、供氣排氣系統(tǒng)及其他配套部件組成，關鍵部分為電源和真空爐體。
　　（1）電源
生產(chǎn)中應用的電源主要有兩種：直流電源和脈沖電源。
　　直流電源提供的電壓、電流是近似平直或帶有波動的直流電。主要技術指標：電壓0～1000V連續(xù)可調。頻率50Hz，滅弧裝置為限流電阻或電子開關。直流電源結構簡單，價格便宜，維修方便，使用壽命長，功率大。但滅弧可靠性不理想，處理溫度與電壓、電流、氣壓不能分開，工藝參數(shù)不能獨立調節(jié)，尤其當功率密度較小時（<0.2W/cm2），不能保證滲層均勻，故直流電源的使用受到一定限制，為了克服上述缺點，開發(fā)了脈沖電源。
　　脈沖電源提供的電壓、電流是具有一定周期的近似方波的脈沖。80年代，德、法、俄、美、英等國相繼開展脈沖電源的研究和應用。目前，德、法已有系列產(chǎn)品，電壓1000V，功率從50～300kW，頻率800～1000Hz，最高可達10kHz（功率40kW以下）。80年代末，我國開始脈沖電源的研究與應用。鐵道部科學研究院先后研制成晶閘管斬波脈沖電源（1990年），GTO斬波脈沖電源（1992年），和高頻脈沖電源（1997年），三種脈沖電源工作時，都是頻率(周期)T固定，而脈沖寬度t可調。α=t/T稱為導通比。目前，已有系列產(chǎn)品，在生產(chǎn)中應用效果良好。
　　脈沖電源的主要優(yōu)點是：①滅弧速度快（10～60μs），能有效地抑制空心陰極效應。對有小孔、溝槽的復雜工件和小模數(shù)齒輪可進行更有效的處理；②能獨立調節(jié)工藝參數(shù)，增加工藝可調性，擴大應用范圍，尤其適宜于離子N-C共滲和離子滲碳；③與直流電源相比，可節(jié)約電源30%左右。
（2）真空爐體
        目前，國內外在工業(yè)生產(chǎn)中應用的爐體主要有四種類型：①水冷雙層爐壁的真空容器，其形狀有鐘罩式和井式。國內產(chǎn)品的主要規(guī)格為：功率25～500kW，真空爐膛直徑700～1700mm，高800～4000mm。該種爐體結構簡單，可用組合件，易于改變爐體高度，可制造大型爐子，價格便宜，維修少，使用壽命長，但能耗大，爐內工件溫度均勻性不易控制，對形狀復雜，且要求滲層均勻、變形小的工件，難于進行有效處理。②帶有對流或熱輻射輔助加熱裝置的熱爐壁真空爐體。使用這種爐子，處理的工件溫度均勻，工藝較易調整，工件升溫、冷卻快。對不同形狀和壁厚的零件可進行有效處理。該種爐子適宜進行離子N-C共滲、離子多元共滲等。但結構較復雜，造價高，工藝成本較高，增加了維修量，難制造大型爐子。③帶高壓氣淬裝置的離子滲碳爐。④帶整體油淬裝置的離子滲碳爐。這后兩種爐子，都是在真空滲碳爐的基礎上，加裝高額脈沖電源，由微機控制工藝過程。
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